メタルマスク

メタルマスク

蒸着用メタルマスク

メタルマスク
小径・多孔メタルマスク

当社独自の工法によるＲ開口形状のマスクです。この工法の特徴は、アディティブ工法の小径・狭ギャップ加工時における欠点とされていたマスク開口の欠損及びピンホールの問題が皆無となり、通常のアディティブマスクでは実現出来ない狭ピッチのパターンにも十分対応可能です。
また表面平滑性と開口壁面の粗さは共に0.1μｍ以下を達成しております。
作製可能なメタルサイズも最大700mm×550mm まで対応致します。

有機ＥＬディスプレイ画素蒸着用マスク

昨今のモバイルディスプレイの主役を担う有機ELディスプレイ。当社独自の電鋳工法によって開口部をＲ形状にする事によりパターンエリアへの均一な画素蒸着が可能となりました。更にレジストの残渣を皆無にする技術により開口を無欠点で形成致します。また、当社独自のピッチ調整技術とフレームへの接合技術（製版技術）により高度なピッチ精度及び開口精度を実現しております。

大学・試験研究機関向けのメタルマスクをご提供

大学の研究室や公的・民間の各試験研究機関向けに小ロット対応、覚悟要望サイズにフレキシブルに対応出来ます。特に応用物理学分野における蒸着やスパッタリング工程に使用するシャドーマスク等に電鋳工法ならではの、マスク厚の薄膜化を可能としております。また、独自の電鋳工法(SUPER NOVA)を適用する事で、パターン間の狭ギャップ化も実現致します。
使用用途実績：画素形成・配線形成・薄膜形成・電極形成等々。