メタルマスク
蒸着用メタルマスク
有機ELディスプレイ画素蒸着用マスク
次世代のモバイルディスプレイの主役を担う有機ELディスプレイ。アテネ独自の電鋳工法によって開口部をR形状にする事によりパターンエリアへの均一な画素蒸着が可能となりました。更にレジスト残渣を皆無にする技術により開口を無欠点に形成する事が出来、独自のピッチ調整技術とフレーム接合技術により高度なピッチ精度及び開口精度を実現しました。
現在マスク大型化に向けた研究開発も行っております。
大学・試験研究機関向けのメタルマスクをご提供
使用用途実績:画素形成、配線形成、薄膜形成、電極形成蒸着、スパッタリング、印刷、微細金型(インプリント)などのパターン形成工程にお使いいただける超高精細なマスクをご提供致します。小ロット対応、各ご要望サイズにフレキシブルに対応できます。